Samsung установит суперсовременный инструмент High-NA EUV — что это значит для индустрии

Samsung планирует сделать значительный шаг вперед в производстве полупроводников, установив первый инструмент для литографии High-NA EUV. По данным Seoul Economic Daily, установка системы ASML Twinscan EXE:5000 с числовой апертурой 0,55 (NA) запланирована на период с четвертого квартала 2024 года по первый квартал 2025 года на кампусе Samsung в Хвасоне.

Фото: Flickr by Kārlis Dambrāns, CC BY 2.0

Этот передовой инструмент будет использоваться для исследований и разработки технологических процессов следующего поколения. Ожидается, что система Samsung High-NA EUV будет введена в эксплуатацию к середине 2025 года, что даст компании возможность обогнать конкурентов, таких как TSMC и SK hynix. Эта технология имеет ключевое значение для производства чипов с разрешением 8 нм, что значительно превосходит текущие системы Low-NA EUV с разрешением 13 нм.

Кроме того, Samsung развивает комплексную экосистему вокруг этой технологии, сотрудничая с такими компаниями, как Lasertec для проверки масок, JSR для фоторезистов, Tokyo Electron для машин травления и Synopsys для инструментов проектирования.

Стоимость систем High-NA EUV варьируется от 380 до 400 миллионов долларов.

Уточнения

Фотолитография в глубоком ультрафиолете (Extreme ultraviolet lithography, EUV, EUVL — экстремальная ультрафиолетовая литография) — вид фотолитографии в наноэлектронике. Считается одним из вариантов фотолитографии следующего поколения. == Литература == Banqiu Wu and Ajay Kumar. Extreme Ultraviolet Lithography (англ.). — McGraw-Hill Professional, Inc, 2009. — ISBN 0071549188. EUV lithography (англ.) / Vivek Bakshi. — SPIE, JW&S, 2009. — ISBN 9780470471555, ISBN 9780819469649. [1] EUV-нанолитография. Проблемы и перспективы развития // Фотоника, Выпуск № 1/2010

Samsung Group («Самсунг Груп», кор. 삼성그룹, Samseong Gurub, Samsŏng Gurup) — южнокорейская группа компаний, один из крупнейших чеболей, основанный в 1938 году.